近段时间，天气日渐凉爽，对于设施蔬菜来说，在棚膜保温作用下，棚内温度依然偏高。因此，蔬菜完全不必早“添衣”，也就是不能早早覆盖地膜。以黄瓜来说，当前覆盖地膜的危害有：
一是地温过高。根系适宜的土壤温度在25℃左右，过高时生长受抑制甚至受害。
二是不利于根系下扎。覆盖地膜后，地表和地膜之间长期保持湿润、透气状态，蔬菜根系就会“赖”在浅层土壤，浮根较多。浮根易被强光伤根而降低或失去功能。
三是地表和地膜之间高温、高湿环境，黄瓜茎基部会着生大量不定根。不定根也容易被强光伤害造成伤口，成为致病菌侵染的入口。再者，黄瓜茎基部表皮幼嫩，易开裂，同样会感染病害。
当然，黄瓜定植后，生长期较长，结果后期温度较低，覆盖地膜有利于提升地温，保护根系。但过早覆盖地膜是不可取的。
根系生长需要良好的土壤环境和养分，过早覆盖地膜使地表的温度、湿度、养分含量等更加适宜根系生长，此时一些大根系不仅不下扎，且在良好环境的吸引下“漂浮”生长。
在浅层土壤生存的根系很容易因深冬期剧烈的温度、水分变化而受到抑制甚至是死亡。因此，菜农在黄瓜定植以后要适当晚覆地膜，采取适当控水及勤划锄的措施，迫使根系向土壤深层生长、扩展，避免根系在浅层土壤盘旋生长。
（果志华）
